Apa itu Filter ULPA? Perbedaannya dengan HEPA dan Dimana Masing-Masingnya

Filter HEPA berdasarkan EN 1822 biasanya mengacu pada H13 atau H14. Filter ULPA mengacu pada U15, U16, atau U17. Lompatan dari H14 ke U15 terlihat kecil di atas kertas, namun dalam hal penetrasi, ini merupakan langkah besar. H14 memungkinkan penetrasi keseluruhan maksimum sebesar 0,005%, sedangkan U15 menguranginya menjadi 0,0005%. Itu adalah pengurangan 10x dalam penetrasi yang diijinkan.

Itu adalah hal pertama yang harus diingat pembeli:

•H14=HEPA

•U15-U17=ULPA

•Dasar pengujiannya adalah MPPS, bukan sekadar pernyataan pemasaran sederhana berukuran 0,3 μm

Efisiensi yang lebih tinggi biasanya berarti kontrol kontaminasi yang lebih ketat, namun juga sensitivitas sistem yang lebih besar terhadap desain aliran udara dan Penurunan Tekanan

Kelas efisiensi EN 1822

Berdasarkan EN 1822, kelas-efisiensi tinggi yang umum dirujuk adalah:

•H13: Lebih besar atau sama dengan 99,95% efisiensi keseluruhan

•H14: Lebih besar atau sama dengan 99,995% efisiensi keseluruhan

•U15: Lebih besar atau sama dengan 99,9995% efisiensi keseluruhan

•U16: Lebih besar atau sama dengan 99,99995% efisiensi keseluruhan

•U17: Lebih besar atau sama dengan 99,999995% efisiensi keseluruhan

Tabel kelas yang sama juga mencakup batas efisiensi/penetrasi lokal, yang penting jika pemindaian kebocoran merupakan bagian dari persyaratan penerimaan.

Di sinilah kebingungan dimulai.

Di pasaran, banyak lembar data ULPA yang masih menggambarkan kinerja sebesar 99,9995% pada 0,12 μm. Literatur produk AAF melakukan hal ini secara langsung untuk modul ULPA dan filter kotak. Kata-kata tersebut masih umum dan familier bagi banyak insinyur. Namun logika klasifikasi formal berdasarkan EN 1822 / ISO 29463 didasarkan pada pengujian MPPS. Artinya, cara paling aman untuk membandingkan produk adalah:

•Periksa kelasnya terlebih dahulu: H14, U15, U16, U17

•Konfirmasi standar pengujian: EN 1822 / ISO 29463

•Kemudian tinjau bagaimana pemasok menyatakan efisiensi yang diukur dalam lembar data

Apa sebenarnya arti lompatan U15

Teknisi kami sering melihat pembeli mentraktirU15sebagai "sedikit lebih baik dari H14." Ini lebih baik dari itu. Total penetrasi yang diijinkan turun satu tempat desimal. Dalam istilah ruang bersih, hal ini penting ketika proses sudah berjalan pada tingkat kerusakan, bukan hanya pada tingkat-kenyamanan ruangan.

Ruang layanan kesehatan dan operasi: targetnya adalah pengendalian infeksi, bukan hasil wafer

Dalam desain layanan kesehatan, perhatian utamanya adalah mengendalikan risiko penularan melalui udara, kontaminasi-lokasi pembedahan, hubungan tekanan, dan aliran udara bersih di zona kritis. Panduan kesehatan ASHRAE menyatakan hal ituFilter HEPA diwajibkan oleh Standar 170 hanya untuk-ruangan lingkungan pelindung, tidak di semua ruang layanan kesehatan. Untuk ruang operasi, penekanannya adalah pada susunan diffuser pasokan, pola aliran udara, dan tekanan ruangan. Itulah sebabnya diskusi kesehatan biasanya berpusat pada hal iniHEPA, bukan ULPA.

Ada produk perawatan kesehatan yang menawarkan kinerja ULPA opsional. Literatur ventilasi ruang operasi Camfil menyebutkan filter ULPA opsional untuk beberapa sistem. Namun hal itu tidak mengubah aturan yang lebih luas:tolok ukur standar layanan kesehatan adalah-penyaringan tingkat HEPA, sedangkan ULPA adalah kasus khusus, bukan jawaban default.

Ruang bersih semikonduktor berbeda. Panduan semikonduktor Camfil menjelaskan pabrik yang menargetkan tingkat partikel ISO Kelas 1 bersama dengan kontrol ketat terhadap kontaminasi molekuler di udara (AMC). Hal ini juga menyoroti penggunaan filter HEPA dan ULPA dalam aplikasi seperti litografi, etsa, difusi, metalisasi, implantasi ion, alat inspeksi, dan penyimpanan reticle atau wafer. MANN+HUMMEL juga menjelaskan sistem FFU untuk ruang bersih menggunakan elemen H14 hingga U17.

Itulah sebabnya pembeli semikonduktor sering berpindah dari HEPA ke ULPA:

•ukuran partikel kritis lebih kecil

• Hilangnya hasil panen berhubungan langsung dengan kontaminasi skala nano

•peralatan dan-lingkungan mini sering kali memerlukan kontrol yang lebih ketat dibandingkan pabrik di sekitarnya

•kontaminasi molekuler di udara sama pentingnya dengan partikel

Aturan sederhana:
•Jika ruangan melindungi alur kerja pasien dan staf, HEPA biasanya menjadi titik referensi.
•Jika ruangan dilindungi oleh wafer, masker, reticle, atau alat proses lanjutan, ULPA menjadi lebih umum

Tidak. Tidak secara otomatis.

Filter yang lebih baik di atas kertas tidak selalu merupakan pilihan teknik yang lebih baik di lapangan.

Pembeli juga harus membandingkan:

•Resistensi Awal

• Penurunan Tekanan akhir yang diijinkan

•kapasitas kipas dan biaya energi

• keseragaman aliran udara

•menyegel dan memindai-persyaratan pengujian

• perilaku mengeluarkan gas

•risiko penerapan jika filter tersumbat lebih cepat atau memaksa desain ulang sistem udara

Teknisi kami sering kali melihat ULPA ditentukan di mana H14 akan memenuhi persyaratan proses sebenarnya dengan ketahanan sistem yang lebih rendah dan biaya pengoperasian yang lebih rendah. Kesalahan sebaliknya juga terjadi: HEPA disalin ke RFQ semikonduktor atau mikroelektronika hanya karena istilah tersebut lebih dikenal. Tidak ada jalan pintas yang merupakan praktik pengadaan yang baik.

Poin ini selalu diabaikan.

Dalam lingkungan semikonduktor dan mikroelektronika, masalahnya bukan hanya pada partikel. Ini juga merupakan pelepasan molekul dari filter itu sendiri. Camfil mengatakan rangkaian prefilter semikonduktornya dirancang untuk melindungi filter HEPA tanpa melepaskan boron, dan produk HEPA/ULPA untuk penggunaan semikonduktor dirancang untuk pelepasan gas yang sangat rendah. AAF menyampaikan hal yang sama dari sisi mikroelektronika, dengan menyatakan bahwa-media filter yang bebas boron dan inert secara kimia membatasi-penghasilan gas yang dapat merusak mikroelektronika. Hollingsworth & Vose juga mendeskripsikan-media kaca mikro rendah boron yang dirancang untuk ruang bersih pabrik semikonduktor.

Dalam manufaktur semikonduktor, kontaminasi jejak tidak bersifat teoritis. Kontaminasi molekuler di udara dan residu kimia dapat mempengaruhi permukaan wafer, optik, dan peralatan proses. Camfil secara eksplisit mencatat bahwa reaksi yang tidak diinginkan melibatkan asam, basa, organik, refraktori, dandopandapat menimbulkan cacat dan mengurangi efisiensi peralatan. Boron adalah elemen dopan dalam pemrosesan semikonduktor, jadi pelepasan boron yang tidak terkendali dari material di jalur udara adalah hal yang coba dihindari oleh para ahli.

Itu sebabnya pembeli barang elektronik sering menanyakan:

•rendah-boronmedia

•rendah-pengeluaran gasperekat dan komponen

•ULPA atau modul-HEPA/ULPA kelas atas yang dibuat khusus untuk mikroelektronika

•filter ruang bersih disesuaikan dengan litografi, etsa, film tipis, atau lingkungan alat inspeksi

Ini penting. Media filter-boron rendah tidak diperlukan di setiap ruang bersih.

Ini menjadi penting ketika:

prosesnya adalah semikonduktor atau mikroelektronika

pembeli mengelola AMC dan pelepasan gas material

pabrik atau pembuat perkakas memiliki spesifikasi ketat mengenai kebersihan bahan kimia

biaya kontaminasi jejak sangat tinggi

Bagi banyak ruang bersih farmasi, rumah sakit, atau industri standar, persyaratan ini mungkin tidak pernah muncul dalam RFQ.

1. Membandingkan HEPA pada 0,3 μm dengan ULPA pada 0,12 μm tanpa memeriksa standar

Itu adalah perbandingan-dan-jeruk kecuali Anda mengonfirmasi dasar tes dan kelas yang disebutkan. Klasifikasi EN 1822 / ISO 29463 dibuat berdasarkan MPPS.

2. Menentukan ULPA karena "kedengarannya lebih aman"

Efisiensi yang lebih tinggi bukanlah peningkatan gratis jika sistem tidak dapat menyerap Penurunan Tekanan atau jika proses tidak memerlukannya.

3. Mengabaikan pembuangan gas dan kebersihan kimia pada elektronik

Dalam aplikasi semikonduktor, bahan filter itu sendiri penting. Konstruksi-rendah boron dan-pengeluaran gas rendah sama pentingnya dengan kelas efisiensi.

4. Menulis "ULPA filter" di RFQ tanpa kelas

RFQ yang serius harus mengatakannyaU15, U16, atau U17, ditambah standar dan ukuran pengujian.